ALD 공정을 이용하여 증착한 high-k 박막의 DRAM capacitor application 활용에 대한 최근 연구 결과를 review한 논문 "Recent advances in the understanding of high-k dielectric materials deposited by atomic layer deposition for dynamic random-access memory capacitor applications"이 Journal of Materials Research: ALD for Emerging Thin-film Materials and Applications 에 publish 되었습니다.
1 Jul. 2019 |
황지현 학생이 2019년 가을학기부터 석박통합과정으로, 안재현 님이 2019년 봄학기부터 석사과정으로, 김제남 학생이 2020년 봄학기 석사과정 예약입학으로 7월부터 l'ete에서 연구를 시작하였습니다. 환영합니다!
26 Apr. 2019 |
전우진 교수가 한국 ALD 워크샵 (K-ALD Workshop 2019) 에서 "Recent Progress in High-k Dielectric Investigation for DRAM Capacitor Application Deposited by Atomic Layer Deposition" 라는 주제로 초청발표를 하였습니다.
27 Mar. 2019 |
김예원, 이애진, 한동희 학생이 2019년 봄학기부터 학부연구생으로 l'ete에서 연구를 시작하였습니다. 환영합니다!
22 Mar. 2019 |
전우진 교수가 UT Dallas - 국민대 In-FUSION 센터 (UTD-KMU In-FUSION Center) Workshop 에서 "Development of atomic layer deposition process on 2D materials and for 2D materials" 라는 주제로 초청발표를 하였습니다.
15 Feb. 2019 |
전우진 교수가 제 26회 한국반도체학술대회 (KCS2019)에서 "New Perspectives in Atomic Layer Deposition Technique for 2D Material Thinfilm Deposition and Thinfilm Deposition on 2D Materials" 라는 주제로 초청발표를 하였습니다.
14 Jan. 2019 |
김병석 학생, 정의영 학생이 2019년 봄학기 석사과정 신입생으로 l'ete에서 연구를 시작하였습니다. 환영합니다!
10 Jan. 2019 |
전우진 교수가 한국재료학회 편집임원으로 선임되었습니다.
03 Dec. 2018 |
HfO2 박막 내 삽입된 Al2O3 위치에 따른 누설전류 mechanism을 분석하여 HfO2 의 누설전류 conduction physics에 대해 분석한 논문 "Controlling the Current Conduction Asymmetry of HfO2Metal–Insulator–Metal Diodes by Interposing Al2O3Layer"이 IEEE Transactions on Electron Devices지에 publish되었습니다.
